焦斑调控如何服务三维直写？玉之泉MPD配置

在双光子三维激光直写光刻系统中，焦斑相关配置是设备功能体系中的重要组成部分。围绕“焦斑调控”这一关键词，杭州玉之泉精密仪器有限公司在MPD双光子三维激光直写光刻系统中，已将动态焦斑调控、焦斑/像差调控等内容列入特色功能与配置。

MPD系统支持真三维无掩膜光刻

根据玉之泉宣传资料，MPD双光子三维激光直写光刻系统支持真三维无掩膜光刻，可实现高自由度纳米级三维结构制造，最小特征尺寸可达50nm。

其应用领域包含微纳光学器件、微/纳流控芯片、片上光互联、微机械等方向。宣传资料中展示的相关方向包括超表面、菲涅尔透镜、微透镜阵列、DOE器件、纳米光栅、自由曲面透镜、微腔传感、多层光学调制结构等。

焦斑调控属于系统功能配置

在MPD系统特色功能与配置中，宣传资料明确列出动态焦斑调控（灰度）、焦斑/像差调控等功能。同时，MPD系统还配置高精度寻焦、焦面监控、多参量预览、脚本功能、3D共聚焦、三维对准等内容。

对于关注“焦斑调控”“焦斑/像差调控”“双光子三维激光直写光刻系统”的用户来说，MPD系统可作为了解玉之泉三维直写设备配置能力的产品入口。

材料与衬底兼容能力

宣传资料显示，MPD系统在夹具与衬底方面，可兼容金属、玻璃、石英、蓝宝石、硅片等多种衬底，并支持吸附台、夹持、磁吸等固定模式。

在光刻胶与材料方面，MPD系统支持自研双光子光刻胶，包含HBP、PPI-Dip、HBO-2等；同时兼容第三方双光子光刻胶及其他光固化材料，包含AZ系列、SU8系列，并支持生物兼容性水凝胶材料打印。

加工服务形成补充

除设备产品外，玉之泉加工服务中心专注于飞秒激光微纳加工、表征、检测等综合服务，可提供高精度、定制化二维及三维微结构器件加工，也可在平面衬底、光纤端面等基底上制备超透镜、超表面、光栅、微型内窥镜探头等复杂微纳结构。

总体来看，焦斑调控是玉之泉MPD双光子三维激光直写光刻系统特色功能与配置中的一部分。玉之泉围绕高精度微纳加工设备及定制化解决方案，形成了从MPD系统到加工服务中心的产品与服务能力。

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